Master conjoint EPFL- Grenoble INP-Politecnico di Torino | MNIS

L’EPFL, l’Institut polytechnique de Grenoble (INPG) et le Politecnico di Torino (PoliTo) se sont associĂ©s pour offrir Ă  leurs Ă©tudiantes et Ă©tudiants un programme conjoint leur permettant de suivre un Master en Micro- et nanotechnologies pour les systĂšmes intĂ©grĂ©s (MNIS) en complĂ©tant un semestre auprĂšs de chacune des trois institutions partenaires.

Les Ă©tudiantes et Ă©tudiants de l’EPFL doivent justifier d’une moyenne de 4,5/6 sur l’ensemble de leur cursus Bachelor pour postuler Ă  ce programme.

L’admissibilitĂ© Ă  la formation conjointe est gĂ©rĂ©e par chaque institution pour les Ă©tudiantes et Ă©tudiants qui y sont inscrits.

ProcĂ©dure pour les Ă©tudiantes et Ă©tudiants de l’EPFL

  • Les Ă©tudiantes et Ă©tudiants de l’EPFL posent leur candidature pour le MNIS auprĂšs de la Section de gĂ©nie Ă©lectrique et Ă©lectronique, fournissant un CV, une lettre de motivation et un relevĂ© de notes/certificat des examens rĂ©ussis. L’admission prend en compte la spĂ©cialitĂ© du Bachelor, les rĂ©sultats acadĂ©miques, le parcours de formation choisi, ainsi que les connaissances linguistiques des candidates et candidats
  • La Section de gĂ©nie Ă©lectrique effectue une premiĂšre sĂ©lection. Une fois cette premiĂšre sĂ©lection passĂ©e, les candidates et candidats de l’EPFL postulent au Master via ce formulaire en ligne. Les candidatures sont ouvertes Ă  partir du 1er dĂ©cembre jusqu’Ă  fin fĂ©vrier
  • Un jury d’admission commun aux trois universitĂ©s procĂšde Ă  la sĂ©lection finale des Ă©tudiantes et Ă©tudiants admis au programme, Ă  la fin du mois de juin

Les étudiantes et étudiants admis au programme doivent obtenir 120 ECTS au total sur une durée maximum de six semestres selon le plan de mobilité suivant:

  • 1er semestre: PoliTo (30 ECTS)
  • 2e semestre: INPG (30 ECTS)
  • 3e semestre: EPFL (30 ECTS)
  • 4e semestre: projet de Master (ou tesi di laurea, 30 ECTS)

Le projet de Master (ou tesi di laurea) peut ĂȘtre rĂ©alisĂ©:

  • AuprĂšs de l’universitĂ© d’origine
  • AuprĂšs de l’une des universitĂ©s partenaires (selon les rĂšgles et sous la supervision de l’institution en question)
  • Dans l’industrie ou auprĂšs d’une institution tierce

EPFL

À l’EPFL, le niveau B2 en français ou en anglais est hautement recommandĂ©.

INPG

Les étudiantes et étudiants doivent présenter un certificat international attestant que leur niveau de connaissance de la langue anglaise est égal ou supérieur au niveau B1.

Liste des certificats acceptés et de leurs équivalences

PoliTo

Les étudiantes et étudiants doivent présenter un certificat international attestant que leur niveau de connaissance de la langue anglaise est égal ou supérieur au niveau B2. Ce certificat leur sera également nécessaire pour obtenir le diplÎme du Politecnico di Torino.

Informations complémentaires

Les Ă©tudiantes et Ă©tudiants ayant suivi le programme MNIS avec succĂšs obtiennent le diplĂŽme de leur institution d’origine, Ă  savoir l’un des diplĂŽmes suivants:

  • Master of Science en GĂ©nie Ă©lectrique et Ă©lectronique, dĂ©cernĂ© par l’EPFL
  • Laurea Magistrale in Nanotechnologies for ICT, dĂ©cernĂ© par PoliTo
  • DiplĂŽme d’ingĂ©nieur de l’Institut national polytechnique de Grenoble, spĂ©cialitĂ© micro- et nanotechnologies pour les systĂšmes intĂ©grĂ©s, dĂ©cernĂ© par INPG

Un certificat conjoint, contenant les signatures et logos officiels de chacune des institutions et mentionnant la spécialisation Micro- and Nanotechnologies for Integrated Systems (MNIS), est également décerné.

Les Ă©tudiantes et Ă©tudiants sĂ©lectionnĂ©s pour participer Ă  ce programme conjoint doivent s’acquitter des taxes d’Ă©tudes auprĂšs de leur universitĂ© d’origine uniquement, selon les normes qui y sont en vigueur, et sont inscrits sans aucun frais de scolaritĂ© dans les universitĂ©s d’accueil, Ă  l’exception de frais annexes.

EPFL

Philippe Gay-Balmaz
Adjoint de la Section de génie électrique et électronique

Grenoble INP/Politecnico di Torino

Pour plus d’informations, veuillez consulter le site Master Nanotech.